Система очистки Meg-Cleaner

Meg-Cleaner – аппарат для трехступенчатой очистки имплантологических компонентов, сверел, алмазных боров и эндодонтических инструментов, сочетающий в себе простоту использования, отличные чистящие свойства и щадящее обращение с инструментами

Функции очистки ультразвуком:

При генерации звуковых волн за счет их колебаний за короткий промежуток времени возникает и исчезает большое количество воздушных пузырей (десятки тысяч в секунду) (Процесс кавитации)

Ядра кавитации (пузыри), образованные при этом продолжают увеличиваться до момента, когда давление достигает максимума и происходит микро-взрыв, который и создает волну. Как следствие – высокая температура и генерация высокого давления

Только качественные и точно откалиброванные ультразвуковые аппараты правильно используют потенциал ультазвуковой волны и помогают достичь результат

Важность функции:

Очистка ультразвуком (40KHz) помогает избавиться не только от обычных загрязнений, но и от органических, таких как остатки крови, слюны и тд

Функция механической очистки:

Функция работает благодаря образованию переменного магнитного поля, которое вращает абразивный материал с высокой скоростью (абразивный мтериал: Нержавеющая сталь-sus304)

Важность функции:

В результате проиcходит тщательная очистка и полировка компонентов до блеска.

Использование данной функции РЕКОМЕНДУЕТСЯ для изделий и компонентов из титана

Использование данной функции НЕ РЕКОМЕНДУЕТСЯ для изделий из нержавеющей стали, поскольку она подвержена воздействию магнитной силы, что может вызвать разного рода повреждения

Функция:

Плазменная стерилизация это процесс который генерируется при низких температурах и насыщает воду природными элементами, которые бережно, но эффективно стерилизуют части и компоненты, убивая все известные микробы

Важность функции:

Плазменная стерилизация является также очень безопасным способом стерилизации и дезинфекции. В отличии от дезинфекции хлором, при плазменной стерилизации не выделяются токсичные вещества, что помогает уберечь персонал он воздействия вредных веществ и не требуется вторичная стерилизация оборудования